快科技10月15日消息，據“中國光谷”公眾號，日前，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產品，通過半導體工藝量產驗證。

T150 A光刻膠實現配方全自主設計，對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。

據介紹，相較于國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀。

通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

資料顯示，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。